Q-FLEX 100型，靈活的體系結構

Q-flex系統的頭部和FCM在家族平臺中是通用的，可以在Q-flex機器之間共享。幾分鐘內，MRF頭的尺寸可以從10毫米、20毫米、50毫米和150毫米改變，以滿足您的拋光需求。

Q-flex系統提供了MRF精加工的所有傳奇決定因素，以及模塊化、生產就緒平臺的靈活性和可重復性，幫助您更智能地制造。Q-flex系統提供了前所未有的制造能力，尤其是在困難的領域，如自由曲面和自由曲面。

柔性技術

模塊化MRF頭設計，實現快速無工具轉換。

流體控制模塊（FCM）提供了改進的流體穩定性、校準和可重復性能，以及快速更換流體和易于清潔。

QED.NET軟件具有易于使用的向導，可完全配置，以實現任何級別的操作員技能的最佳吞吐量。

為卓越而設計

Q-flex系統的模塊化意味著您可以將機器與您的工作量相匹配，為您的精密光學車間帶來更高的效率。Q-flex系統設計用于面向生產的環境。

Q-flex系統提供了MRF精加工的所有傳奇決定因素，以及模塊化、生產就緒平臺的靈活性和可重復性，幫助您更智能地制造。Q-flex系統提供了前所未有的制造能力，尤其是在困難的領域，如自由曲面和自由曲面。

幾分鐘內，MRF頭的尺寸可以從10毫米、20毫米、50毫米和150毫米改變，以滿足您的拋光需求。

可以選擇拋光頭以優化拋光工具尺寸（光斑）、凹形零件半徑、自由形狀等。

頭部可以快速和動態地調整為旋轉、光柵或自由形式模式。

通過內置探測站自動調整頭部。

頭部推車用于高效操作和方便的零件存儲。

清潔后設置更快、更容易，具有更高的日常和操作員對操作員的重復性

流體控制模塊（FCM）將流體輸送系統硬件和控制裝置安裝在一個組件中。

使用多個FCM，流體轉換可以在幾分鐘內完成。

MRF流體可保持在基礎機器內或遠離基礎機器的旁路中。

清理很簡單：FCM安裝在輪子上，可以移動到清潔站。

使用新的EFMS（電子流體監測系統）流體控制系統，您可以獲得更好的流體強度控制。

R-FLEX 100型

Q-FLEX 100型功率和精度

“繞輪”虛擬軸技術，實現真正的自由拋光。

咨詢電話：135 2207 9385

拋光模式

選擇最適合您需求的拋光模式！

旋轉和自由旋轉拋光

零件尺寸高達：~125 mm*

半角最大90度

零件孔徑：圓形

旋轉模式：

零件形狀：平面、球體、非球面

自由旋轉模式：

零件形狀：環形、離軸非球面、自由形式

光柵和自由光柵拋光

零件尺寸高達：~125 x 125 mm*（根據幾何形狀，可實現更大的零件）

零件孔徑：圓形、矩形、六邊形、橢圓形，通過位圖孔徑定義自定義形狀

光柵模式：

零件形狀：平面、棱柱、圓柱體

最大90度的半角（僅限氣缸）

自由形式光柵模式：

零件形狀：球體、非球面、環形、離軸非球面、自由形式

在X方向上最多90度的半角，在Y方向上最多30–45度（取決于車輪）

技術規范

最小凹曲率半徑**

150mm封頭      105毫米CCV

50mm封頭       35毫米CCV

20mm封頭       14毫米CCV

10mm封頭       7毫米CCV

最大半角（使用“車輪周圍”功能時）

150mm封頭     30度

50mm封頭      45度

20mm封頭      40度

10mm封頭      40度

機器規格：

最大工件重量*        2.5 kg（包括透鏡架）

工件附件            真空卡盤

各軸                X、Y、Z、A***、B***+虛擬軸

人機界面           HMI用戶界面，帶觸摸屏QED.NET軟件，標準PC運行Windows?10

MRF拋光液         與QED全系列MR流體兼容，包括C10+、C12、C30、D10、D11和D20。

機器占地面積       1.37 m寬x 1.67 m深

所需最小占地面積   2.45 m寬x 3.57 m深

機器安裝高度       2.29 m高

機器總重量         1588千克（估計）

壓縮空氣（分鐘）****6巴，85?/分鐘，干燥并過濾至10μm

電氣的部分：

選項1   200-220 VAC，50/60 Hz，20A，3ph+PE（4線）

選項2   400 VAC，50/60 Hz，20A，3ph+N+PE（5線）

典型能力：

形狀/圖形校正

高度收斂性

在1次迭代中提高5-10倍

不合乎常規的行為

低至λ/30-λ/40（PV）或更低，受計量再現性限制

粗糙度改善

微觀粗糙度   在大多數具有任何MR流體的材料上<1 nm rms/在大多數具有特定MR流體的玻璃和單晶上<0.5 nm rms

超低微粗糙度  在某些具有特定MR流體的材料上可達到0.1-0.2 nm rms

上面列出的結果是典型值。

表面質量/完整性改善

提高抗激光損傷能力     

清除地下損壞

消除應力       

去除霧霾，敏感眼鏡上的精細化妝品

為特殊目的誘導特定的形式/圖形

通過僅拋光1個表面來校正透射波前誤差

校正棱鏡角度誤差

正確的薄膜厚度變化

創建“相位板”或引起其他特定畸變表面誤差

*請注意：工件幾何形狀和重量規格是用作一般指南的近似值。由于難以量化的其他因素，例如工件慣性，在某些情況下確實可以運行該范圍之外的零件，以及在所有情況下都可能無法運行的該范圍內的零件。當嘗試超出這些限制的零件時，請小心，或聯系QED以獲得進一步指導。

**半徑范圍取決于特定零件幾何圖元和頭部幾何圖元

***可用軸取決于購買的選項

****3/8“最小空氣管道，1/4 NPT內螺紋（連接由客戶提供）